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產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)

多功能高倍率校準(zhǔn)卡

產(chǎn)品型號(hào)：
更新時(shí)間：2026-02-07
產(chǎn)品介紹：多功能高倍率校準(zhǔn)卡這種“集多功能于一身"的校準(zhǔn)卡可用來(lái)校準(zhǔn)顯微鏡和機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)的參數(shù)，而不需分別校正。本卡可用來(lái)測(cè)試和校準(zhǔn)Mitutoyo物鏡，Zeiss物鏡，以及高倍視頻鏡頭的分辨率，畸變，以及景深（DOF）等等。測(cè)試卡中包括各種頻率的蝕刻線，一組柵格和同心圓，一組微刻尺，以及邊緣撐塊來(lái)支撐測(cè)量景深的卡。帶使用信息卡，一盤(pán)CD（操作說(shuō)明），以及NIST認(rèn)證說(shuō)明。
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
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產(chǎn)品介紹

價(jià)格區(qū)間	1萬(wàn)-5萬(wàn)	組件類別	光學(xué)元件
應(yīng)用領(lǐng)域	電子/電池

多功能高倍率校準(zhǔn)卡

Ø用來(lái)測(cè)試校準(zhǔn)，適用于顯微鏡和機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)

Ø包括蝕刻線（郎奇制作法）同心圓，正方形柵格，以及直線微尺

Ø有兩種測(cè)試卡選，分別用在不同的倍率

Ø附帶NIST認(rèn)證

這種“集多功能于一身”的校準(zhǔn)卡可用來(lái)校準(zhǔn)顯微鏡和機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)的參數(shù)，而不需分別校正。本卡可用來(lái)測(cè)試和校準(zhǔn)Mitutoyo物鏡，Zeiss物鏡，以及高倍視頻鏡頭的分辨率，畸變，以及景深(DOF)等等。測(cè)試卡中包括各種頻率的蝕刻線，一組柵格和同心圓，一組微刻尺，以及邊緣撐塊來(lái)支撐測(cè)量景深的卡。帶使用信息卡，一盤(pán)CD（操作說(shuō)明），以及NIST認(rèn)證說(shuō)明。

低頻測(cè)試板用在倍率為4X到20X的物鏡，適合用在機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)上的低倍長(zhǎng)焦系統(tǒng)

高頻測(cè)試板用在倍率為20X到100X的物鏡，可用在顯微鏡和其它高倍短焦系統(tǒng)。

多功能高倍率校準(zhǔn)卡通用規(guī)格

基底:	Fused Silica
平行度（弧分）:	1.00
涂層:	Evaporated Chrome Pattern
尺寸（英寸）:	1 x 3
整體精度 (μm):	±1.0
表面平整度:	3 - 4λ

訂購(gòu)信息：

標(biāo)題	產(chǎn)品號(hào)
4x 到 20x 多功能目標(biāo)板	#56-076
20x 到 100x 多功能目標(biāo)板	#56-077

技術(shù)數(shù)據(jù)

4X - 20X Target Specifications - Concentric Circles
Outer Diameter (mm)	Line Spacing (mm)	Line Width (μm)
5.0	0.25	20
4.0	0.25	15
3.0	0.25	10
2.0	0.10	7.5
1.0	0.10	5

4X - 20X Target Specifications - Grids
Width (mm)	Line Spacing (mm)	Line Width (μm)
4.5	0.25	20
4.5	0.25	15
4.5	0.25	10
4.5	0.10	15
4.5	0.10	10
4.5	0.10	5
2.55	0.075	10
2.55	0.075	5
2.55	0.050	5
2.55	0.050	2.5

4X - 20X Target Specifications - Ronchi Rulings
Range (lp/mm)	Frequency Change (lp/mm)
60 - 380	20

4X - 20X Target Specifications - Linear Microscale
Length (mm)	Divisions/mm	Microns/divisions
0 - 68.2	20	50

20X - 100X Target Specifications - Concentric Circles
Outer Diameter (mm)	Line Spacing (mm)	Line Width (μm)
3.0	0.25	10
2.0	0.10	7.5
1.5	0.10	5
1.0	0.05	5
1.0	0.05	2.5

20X - 100X Target Specifications - Grids
Width (mm)	Line Spacing (mm)	Line Width (μm)
3.0	0.25	10
3.0	0.25	7.5
3.0	0.25	5
3.0	0.10	10
3.0	0.10	7.5
3.0	0.10	5
2.55	0.075	10
2.55	0.075	5
2.55	0.050	5
2.55	0.050	2.5

20X - 100X Target Specifications - Ronchi Rulings
Range (lp/mm)	Frequency Change (lp/mm)
240 - 600	10

20X - 100X Target Specifications - Linear Microscale
Length (mm)	Divisions/mm	Microns/divisions
0 - 68.2	20	50

4X to 20X Multi-Function Target

庫(kù)存 #56-076

Coating:	Evaporated Chrome Pattern
Substrate:	Fused Silica
Dimensions (inches):	1 x 3
Surface Quality:	20-10
Thickness (mm):	6.35
Overall Accuracy (μm):	±1.0
Parallelism (arcmin):	1
Surface Flatness:	3 - 4λ
RoHS:	符合標(biāo)準(zhǔn)

20X to 100X Multi-Function Target

庫(kù)存 #56-077

Coating:	Evaporated Chrome Pattern
Substrate:	Fused Silica
Dimensions (inches):	1 x 3
Surface Quality:	10-2
Thickness (mm):	9.00
Overall Accuracy (μm):	±1.0
Parallelism (arcmin):	1
Surface Flatness:	3 - 4λ
RoHS:	符合標(biāo)準(zhǔn)

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