雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡
- 產品型號：
- 更新時間：2025-12-18
- 產品介紹：雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射鍍膜技術，這些反射鏡將使用其他傳統鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應用，因為它們將保持超短脈沖持續時間，而使用更傳統的激光反射鏡時很難保持這種持續時間。
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產品介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
雙波段低 GDD 超快反射鏡
用于超快光束轉向的高反射率和低 GDD
離子束濺射鍍膜最大限度地減少散射和吸收損失
設計波長范圍內的近零群延遲色散
TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射鍍膜技術，這些反射鏡將使用其他傳統鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應用，因為它們將保持超短脈沖持續時間，而使用更傳統的激光反射鏡時很難保持這種持續時間。
通用規格
| 入射角 (°): | 45 | 鍍膜類型: | S1: Dielectric S2: Stress-compensating |
| 波長范圍 (nm): | 500 - 540, 1000 - 1070 | ||
| 后表面: | Commercial Polish | 鍍膜規格: | Rs>99.9% @500-540nm; Rp>99.8% @505-530nm; Rs>99.9% @1000-1070nm, Rp>99.8% @1000-1070nm |
| 基底: | Fused Silica | ||
| 平行度（弧分）: | <3 | ||
| 有效孔徑 (%): | >90 | ||
| 典型應用: | Beam transport of 1st and 2nd harmonic of Yb:doped lasers | <35fs2@ 500 - 540nm (s-pol) <50fs2@ 505 - 530nm (p-pol) <20fs2@ 1000 - 1070nm (s-pol) <40fs2@ 1000 - 1070nm (p-pol) | |
| 鍍膜: | Ultrafast (500-540, 1000-1070nm) | ||
| 表面質量: | 10-5 | GDD Specification: | |
| 設計波長 DWL (nm): | 515, 1030 | ||
產品型號
| 標題 | 產品編碼 |
| 515, 1030nm, 12.7mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-286 |
| 515, 1030nm, 25.4mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-287 |
| 515, 1030nm, 50.8mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-288 |
UltraFast Innovations (UFI) EUV 阿秒多層反射鏡
設計用于 330 阿秒脈沖 @ 65eV (19nm)
具有 38% 峰值反射率的多層鍍膜
≤1? 表面粗糙度超拋光基材
13.5nm 設計的 EUV 平面鏡和 EUV 球面鏡也可提供
UltraFast Innovations (UFI) 極紫外 (EUV) 阿秒多層反射鏡專為控制、聚焦和整形阿秒脈沖而設計。 它們的多層鍍膜以 65eV (19nm) 為中心，帶寬為 6eV (1.8nm)，為 s 偏振光提供 38% 的峰值反射率。 這些反射鏡支持時間持續時間為 330 阿秒的 EUV 脈沖。 UFI 極紫外 (EUV) 阿秒鏡非常適合基于高次諧波 (HHG)、自由電子激光器 (FEL) 或其他量子光學應用的阿秒脈沖生成和整形。 提供直徑為25.4mm的平面鏡和凹面鏡； 如果您的應用需要具有定制中心能量、帶寬或其他規格的 EUV 多層反射鏡，請聯系我們。
通用規格
| 直徑 (mm): | 25.40 ±0.13 | 基底: | Fused Silica |
| 后表面: | Commercial Polish | 鍍膜規格: | Rs > 38% @ 65eV/19nm |
| 表面質量: | 10-5 | 鍍膜: | EUV Multilayer (19nm) |
| 入射角 (°): | 5 | 有效孔徑 (%): | 80 |
| 設計波長 DWL (nm): | 19 | 邊緣: | Fine Ground |
| 表面粗糙度（埃）: | <1 | Center Energy (eV): | 65 ±2 |
| Bandwidth (eV): | 6 | Supported Pulse Duration: | 330 attoseconds |
| 邊緣厚度 ET (mm): | 6.35 ±0.20 |
產品型號
| 標題 | 產品編碼 |
| 25.4mm Dia., 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Flat Mirror | #16-765 |
| 25.4mm Dia. x 250mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror | #16-766 |
| 25.4mm Dia. x 500mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror | #16-767 |
技術數據
超快增強型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡
用于 Ti:sapphire 和 Yb:doped 激光器的超快增強型銀膜
600 - 1050nm 范圍的群延遲色散低 (0±20fs2)
<50? RMS 表面粗糙度，以最/大程度地減少散射
TECHSPEC® 超快增強型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡用于準直或聚焦指/定偏移角度的入射光。這些反射鏡鍍有超快增強型銀膜，在 600 - 1050nm 范圍內提供 >99% 的反射率，同時保持 0 ±20fs2的低群延遲色散 (GDD)。這些反射鏡的離軸設計將焦點與光束路徑分開，從而在焦點周圍提供更多交互空間，而不會干擾入射光束。TECHSPEC 超快增強型銀膜 OAP 反射鏡非常適合聚焦來自中低功率超快激光器的激光，包括 Ti:sapphire 和 Yb:doped 光纖激光器，同時最大限度地減少超快脈沖的時間擴展。帶有垂直于光軸的孔的安裝板可用于將這些反射鏡安裝到臺式系統中。
通用規格
| 焦距容差 (%): | ±1 | 涂層規格: | Ravg>99% @ 600 - 1000nm, 0° Rs>99% @ 540 - 1000nm, 45° Rp>98.5% @ ~730 - 870nm, 45° |
| 波長范圍 (nm): | 600 - 1050 | ||
| 面形計算 (RMS): | λ/4 | ||
| 偏離角度 (°): | 90 | 鍍膜類型: | Ultrafast Enhanced Silver |
| 表面粗糙度（埃）: | <50 RMS | 反射波前, RMS: | λ/8 |
| 表面質量: | 80-50 | 基底: | Aluminum 6061-T6 |
| 涂層: | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | ||
產品型號
| Dia. (mm) | EFL (mm) | 涂層 | 產品編碼 |
| 12.70 | 12.70 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-133 |
| 12.70 | 25.40 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-134 |
| 12.70 | 203.20 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-138 |
| 25.40 | 25.40 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-139 |
| 25.40 | 50.80 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-140 |
| 25.40 | 203.20 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-146 |
| 50.80 | 50.80 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-147 |
| 50.80 | 190.60 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-152 |
技術數據
600-1050nm Ultrafast-Enhanced Silver
雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡
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